Équipement pour le nettoyage des applications après la coupe
ADT 977

ADT
adt 977 nettoyage wafer cleaner accelonix

Le ADT 977 Wafer Cleaner est conçu pour nettoyer les pièces après la découpe pour une large gamme de types de pièces. L'unité est équipée d'une table rotative et d'un bras de nettoyage. Options de nettoyage par pulvérisation ou à haute pression.

Caractéristiques techniques

  • Nouvelle version avec logiciel et matériel améliorés pour une flexibilité, une facilité d'utilisation et une grande fiabilité

  • Élimination à 100 % de la contamination et des résidus

  • Rotation des wafers de 200 mm à 3 000 tr/min et des wafers de 300 mm à 200 tr/min

  • Nettoyage par pulvérisation et séchage à l'azote (N2)

  • Séquence programmable, vitesse

  • Option pour les additifs, pompe à haute pression

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